OPC软件，全称为 光学邻近校正软件（Optical Proximity Correction software），是 芯片设计工具EDA的一种。它用于优化光刻图形，提高芯片尺寸的准确性和形状的一致性，从而改善芯片的制造质量和性能。

OPC软件的作用

光学邻近效应修正：通过修正掩膜版上的图形，以弥补因衍射受限成像而导致的图像失真，提高芯片制造过程中的良率。

提高制造质量：优化光刻图形后，可以提高芯片的尺寸精度和形状一致性，进而提升整体制造质量。

OPC软件的市场前景

市场规模：根据恒策咨询的统计及预测，2023年全球光学邻近效应修正（OPC）软件市场销售额达到了数亿美元，预计到2030年将达到更高的水平，年复合增长率（CAGR）为某个百分比（2024-2030）。

OPC软件的应用

半导体制造：OPC软件广泛应用于半导体制造过程中，特别是在光刻工艺中，用于修正光刻图形，确保芯片设计的精确实现。

工业自动化：OPC也是一种工业标准，用于过程控制，它通过提供一套标准的OLE/COM接口，使得基于Windows的应用程序能够访问现场过程控制数据。

OPC软件的技术基础

OLE/COM技术：OPC基于微软的OLE（对象链接和嵌入）和COM（部件对象模型）技术，采用客户/服务器模式，提供了一种高效、可靠、开放和可互操作的数据通信标准。

国内发展

自主研发：华中科技大学刘世元教授团队成功研发出全国首款完全自主可控的OPC软件，填补了国内空白。

结论

OPC软件是芯片设计和制造过程中不可或缺的工具，它通过光学邻近校正技术，显著提升了芯片的制造质量和性能。随着技术的不断发展和市场需求的增长，OPC软件的市场前景非常广阔。国内在自主可控OPC软件方面的研发也取得了重要进展，显示出在该领域的技术实力和创新能力。